項目概況

項目為生產二極管的半導體制造行業，制成工藝中會使用氫氟酸，衍生出含氟廢水。此廢水氟濃度高，廢水成分復雜，使用我司除氟劑后可處理達標至排放標準。

水質情況

處理難點

排放標準嚴格（F≤1.0 mg/L），進水氟濃度較高，廢水硅含量較高（硅能夠和氟形成絡合態結構），處理難度大。

目標要求

1. 處理水F≤1.0 mg/L；

2. 處理水清澈透明，無懸濁物；

3. 工藝簡單，無復雜工藝；

4. 處理水氟不反溶。

工藝

采用鈣鹽搭配深度除氟劑二段處理的工藝路線。

工藝流程

處理優勢

1. 加藥量低

2. 污泥量少

3. 反應速度快

4. 出水穩定達標＜1.0 mg/L

5. 處理水無反溶現象